氧化铝陶瓷常规的烧结方法是怎样的?常规的烧结方法无法满足制备氧化铝透明陶瓷的要求，制备透明陶瓷常用的烧结方法有：a气氛与真空烧结、b热等静压烧结、c放电等离子体烧结等。

氧化铝陶瓷常规的烧结方法是怎样的

1、气氛与真空烧结

通过常压烧结制备的氧化铝陶瓷通常会有1~3%的残余气孔，而通过在真空或者气氛中烧结可使氧化铝坯体产生大量氧空位，加速O2-的扩散，使坯体致密化速率加快，这样可以使残余气孔更容易排除。

2、热等静压烧结

热等静压(HIP)是一种集高温、高压于一体的工艺生产技术，加热温度可以达到2000℃;通过以密闭容器中的高压惰性气体或氮气为传压介质，其工作压力可达200MPa以上。在高温高压的共同作用下，能够将常压烧结下难以消除的闭口气口排除，可制备出高透明度的亚微米级氧化铝陶瓷。由于利用此种方法制备的氧化铝透明陶瓷晶粒尺寸细小，使得陶瓷的机械性能非常优异。

3、放电等离子体烧结

放电等离子烧结(SPS)是将原料粉末装入石墨等材质制成的模具内，利用上、下模冲及通电电极将特定烧结电源和压制压力施加于原料粉末，经放电活化、热塑变形和冷却完成烧结过程。由于SPS能够快速烧结和可在较低温度下实现精细陶瓷结构的致密化，近几年被广泛地应用于制备氧化铝透明陶瓷。